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應(yīng)用范圍： MSK-PSP-LSD4040 雙光路激光刻蝕機(jī)廣泛應(yīng)用于剛性或柔性基材的薄膜類(lèi)電池激光刻蝕，包括鈣鈦礦、有機(jī)電池OPV、碲化鎘類(lèi)薄膜太陽(yáng)能電池刻蝕劃線等領(lǐng)域。

應(yīng)用范圍：MSK-PSP-LSS1010小型單光路激光刻蝕機(jī)集數(shù)控技術(shù)、激光技術(shù)、軟件技術(shù)等光機(jī)電高技術(shù)于一體，具有高靈活性、高精度、高速度等先進(jìn)制造技術(shù)的特征?？纱蠓秶鷥?nèi)進(jìn)行各種圖案，各種尺寸的精密、高速刻蝕，并且能夠保證很高的產(chǎn)能，是一個(gè)可靠、穩(wěn)定和具有高性能價(jià)格比的產(chǎn)品。

紫外固化箱 產(chǎn)品型號(hào)：MSK-PSP-UVC4 設(shè)備尺寸：約L377*W332*H145mm 重量：約8kg

應(yīng)用范圍：MSK-PSP-VL4050真空層壓機(jī)可層壓也可固化，設(shè)備生產(chǎn)組件兼容性強(qiáng)；適應(yīng)普通工業(yè)環(huán)境和實(shí)驗(yàn)室環(huán)境。

應(yīng)用范圍：MSK-PSS-MC1010磁控濺射儀可在襯底基片上濺射一層薄膜，原理是由惰性工藝氣體產(chǎn)生輝光放電現(xiàn)象生成帶電離子，帶電離子經(jīng)過(guò)電場(chǎng)加速后轟擊固體靶材表面，使靶材表面原子和分子被轟擊飛濺出來(lái)，同時(shí)產(chǎn)生二次電子，再次撞擊氣體原子而形成更多的帶電離子，從靶材濺射出來(lái)的粒子在低壓氣氛中向硅片作渡越運(yùn)動(dòng)，碰撞到襯底基片上并被基片吸附，最終凝聚在襯底形成需要的薄膜。

應(yīng)用范圍：MSK-PSE-EC1515-D共蒸六源鈣鈦礦真空鍍膜儀配備6組蒸發(fā)源，可蒸鍍切換最多6種有機(jī)材料，也可同時(shí)共蒸2種材料如：Cu、Ag、PbI2、CsBr等材料；設(shè)備可與手套箱對(duì)接方便在手套箱中操作，采用前滑動(dòng)開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu)。設(shè)備廣泛應(yīng)用于高校、科研院所的教學(xué)、科研實(shí)驗(yàn)以及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實(shí)驗(yàn)及開(kāi)發(fā)新產(chǎn)品等。