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GSL-1800X-ZF2 蒸發(fā)鍍膜儀主要應(yīng)用于大專院校、科研機(jī)構(gòu)、企業(yè)實(shí)驗(yàn)室及微小產(chǎn)品進(jìn)行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓(xùn)和生產(chǎn)

GSL-1800X-ZF4 蒸發(fā)鍍膜儀是一款高真空的蒸發(fā)鍍膜儀，特別適合蒸鍍對(duì)氧較敏感的金屬膜（如Ti、Al、Au等），也可蒸鍍各種氧化物材料。本機(jī)設(shè)有4個(gè)蒸鍍加熱舟，且每個(gè)蒸鍍舟都帶有擋板。若更改部分配置也可實(shí)現(xiàn)對(duì)有機(jī)材料的蒸發(fā)鍍膜，可滿足發(fā)光器件及有機(jī)太陽(yáng)能電池方面的研究要求，是一款鍍膜效果理想且性價(jià)較高的實(shí)驗(yàn)設(shè)備。

OTF-1200X-RTP-II 近距離蒸發(fā)鍍膜（CSS）爐專門針對(duì)于用PVD或CSS法來(lái)制作薄膜。管式爐爐管直徑為11“ OD，爐管內(nèi)載樣盤可放置3“ 的圓形或2“x2“的方形基片。加熱元件為兩組紅外燈管，分別安裝在腔體的頂端和底部，其升溫速率高達(dá)20ºC/S 。溫控系統(tǒng)為PID30段程序化控制，控溫精度為+/-1ºC。儀器面板上帶有RS485接口，儀表內(nèi)配有控溫軟件，可將升溫程序和曲線導(dǎo)出。

鈣鈦礦鍍膜機(jī)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機(jī)薄膜等，可用于科研單位進(jìn)行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗(yàn)工作，廣泛應(yīng)用于有機(jī)、無(wú)機(jī)、鈣鈦礦薄膜太陽(yáng)能電池、OLED等研究領(lǐng)域。

OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)鍍膜爐，其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設(shè)備專門設(shè)計(jì)針對(duì)于熱蒸發(fā)或CSS（Close Spaced Sublimation）鍍膜實(shí)驗(yàn)，其鍍膜面積可達(dá)到5“x5“，并且頂部載樣臺(tái)可旋轉(zhuǎn)，提高鍍膜均勻性。此款高溫爐的加熱元件是兩組紅外燈管（分別位于頂部和底部），大升溫速率為10ºC/s 。對(duì)于探索新一代的薄膜太陽(yáng)能電池，

GSL-1700X-EV4 程序控溫型四坩堝蒸發(fā)鍍膜儀是一款小型溫控型蒸發(fā)鍍膜儀，內(nèi)部設(shè)有4個(gè)蒸發(fā)坩堝，且每個(gè)蒸發(fā)坩堝都帶有擋板，多可放置4種不同的蒸發(fā)物料，可在同一氣氛下依次鍍膜，實(shí)現(xiàn)多層膜的沉積工藝。可程序控溫，控溫范圍200-1500℃（選用B型熱電偶：1200℃-1700℃），大可蒸鍍直徑2英寸薄膜樣品，樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜和有機(jī)物薄膜。