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MSK-PSP-FE2020閃蒸成膜儀是一款輔助成膜結(jié)晶設(shè)備。本設(shè)備主要針對于溶液法制備鈣鈦礦薄膜工藝所設(shè)計(jì)，設(shè)備可以創(chuàng)造真空條件，在真空條件下液體沸點(diǎn)降低，加快溶劑揮發(fā)，有利于鈣鈦礦薄膜的形成。經(jīng)閃蒸處理后的薄膜結(jié)晶致密均勻。該設(shè)備適合實(shí)驗(yàn)室及科研單位對鈣鈦礦薄膜研制使用。

MSK-PSP-HPL2020精密加熱臺是一款可以對樣品進(jìn)行加熱或者恒溫控制的實(shí)驗(yàn)設(shè)備。通過其加熱控制系統(tǒng)，可以在較短的時(shí)間內(nèi)提高樣品溫度。同時(shí)，加熱平臺還可以提供穩(wěn)定的溫度環(huán)境，為實(shí)驗(yàn)的穩(wěn)定進(jìn)行提供保障。該設(shè)備主要應(yīng)用于鈣鈦礦太陽能電池制膜工藝、化學(xué)研究、材料研究、生物學(xué)研究等，需要精準(zhǔn)控制加熱溫度的領(lǐng)域。該設(shè)備控溫精度高、熱均勻好，為實(shí)驗(yàn)穩(wěn)定進(jìn)行提供保障，適合實(shí)驗(yàn)室及科研單位使用。

應(yīng)用范圍：MSK-PSS-MC1010磁控濺射儀可在襯底基片上濺射一層薄膜，原理是由惰性工藝氣體產(chǎn)生輝光放電現(xiàn)象生成帶電離子，帶電離子經(jīng)過電場加速后轟擊固體靶材表面，使靶材表面原子和分子被轟擊飛濺出來，同時(shí)產(chǎn)生二次電子，再次撞擊氣體原子而形成更多的帶電離子，從靶材濺射出來的粒子在低壓氣氛中向硅片作渡越運(yùn)動，碰撞到襯底基片上并被基片吸附，最終凝聚在襯底形成需要的薄膜。